レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-233216
公開番号（公開出願番号）：特開2002-049155
出願日： 2000年08月01日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：

【要約】【課題】高感度、高解像力を有し、PCDに優れ、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができる電子線又はX線レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(b)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有するポジ型電子線又はX線レジスト組成物において、電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物が、特定のスルホン酸エステルと特定のオニウムスルホン酸塩を含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物(b)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有するポジ型電子線、X線レジスト組成物において、該(a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物が(a1)N-ヒドロキシイミドのスルホン酸エステルを少なくとも1種、および(a2)スルホニウムスルホン酸塩、ヨードニウムスルホン酸塩の群から選択されるオニウムスルホン酸塩を少なくとも1種含有することを特徴とするポジ型電子線、X線レジスト組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L101/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/032 , G03F 7/038 601 , H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L101/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/032 , G03F 7/038 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (49件)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB52 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002BC061 , 4J002BC071 , 4J002BC072 , 4J002BC121 , 4J002BC122 , 4J002BE022 , 4J002BG012 , 4J002BG051 , 4J002BG052 , 4J002BH011 , 4J002BH021 , 4J002CC042 , 4J002CC112 , 4J002EB106 , 4J002EE037 , 4J002EE047 , 4J002EJ017 , 4J002EJ018 , 4J002EJ037 , 4J002EJ047 , 4J002EL097 , 4J002EV077 , 4J002EV207 , 4J002EV227 , 4J002EV246 , 4J002EV256 , 4J002EV296 , 4J002FD148 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002GP03

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