特許
J-GLOBAL ID：200903044819438229
荷電粒子照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-336806
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176599
出願日： 1997年12月08日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】 この発明は、ビーム輸送系での偏向電磁石を小さくすることができるとともに、その電源容量も小さくすることができ、製造コストおよびランニングコストを低減することができる荷電粒子照射装置を得る。【解決手段】 この発明の荷電粒子照射装置は、円形加速器7が垂直面内に加速するように縦置きされており、また円形加速器7から取り出されたビームの性質はビームの垂直方向のエミッタンスが水平方向のエミッタンスよりも小さくなっている。
請求項（抜粋）：
入射器と、この入射器から射出した荷電粒子を垂直面内に加速するように縦置きされた円形加速器と、この円形加速器から取り出されたビームを輸送するビーム輸送系とを備え、前記ビーム輸送系は、水平面内にビームを偏向する偏向電磁石と、前記ビームの形状を整える四極電磁石とを有し、また前記円形加速器から取り出されたビームの形状は、ビームの垂直方向のエミッタンスが水平方向のエミッタンスよりも小さくなっている荷電粒子照射装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05H 13/04 Z
, A61N 5/10 H
