特許
J-GLOBAL ID：200903044822929985
メタルマスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (2件)：
吉田 研二 (外4名)
, 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-292914
公開番号（公開出願番号）：特開2002-055461
出願日： 2000年09月26日
公開日（公表日）： 2002年02月20日
要約：
【要約】【課題】 製造工程における寸法管理が容易で、高精度のメタルマスクを多数枚、同一の精度で作製することができるメタルマスクの製造方法を提供する。【解決手段】 ガラス板1の表面にマスクパターン2aを有するCr膜2を形成し、次いで、Cr膜2上にドライフィルム4を形成し、次いで、Cr膜2をマスクとしてドライフィルム4をガラス板1側から露光し、ドライフィルム4にマスクパターン2aと同一形状のマスクパターン4aを形成し、次いで、Cr膜2上に金属メッキ層6を形成し、この金属メッキ層6を剥離してメタルマスク7とすることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透明板または透明フィルムの一主面にマスクパターンを有する導電膜を形成し、次いで、該導電膜上に感光膜を形成し、次いで、前記導電膜をマスクとして前記感光膜を前記透明板または透明フィルムの側から露光し該感光膜に前記マスクパターンと同一形状のマスクパターンを形成し、次いで、前記導電膜上に金属メッキ層を形成し、この金属メッキ層を剥離してメタルマスクとすることを特徴とするメタルマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (10件)：
2H096AA24
, 2H096AA27
, 2H096CA05
, 2H096EA16
, 2H096HA27
, 5E343AA02
, 5E343AA26
, 5E343AA34
, 5E343FF14
, 5E343GG08
