特許
J-GLOBAL ID：200903044822982134
金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-195098
公開番号（公開出願番号）：特開平6-036278
出願日： 1992年07月22日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、磁性層やダイヤモンド状炭素保護膜層への傷つきを抑えてDOを低減させる、金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。【構成】 非磁性支持体上の一面に、金属薄膜よりなる磁性層、ダイヤモンド状炭素薄膜よりなる保護膜層および潤滑層を形成した金属薄膜型磁気記録媒体において、磁性層を形成した後、その表面を平均粒径が0.5μm以下の砥粒を用いた研磨層がベースフィルム上に形成された研磨テープでバニッシングし、この上より保護膜層を形成させ、さらにその表面をバフ研磨部材でバニッシングする金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法である。【効果】 磁性層および保護膜層の傷が抑えられるため、磁性層の錆の発生やVTR走行時のテープダメージが抑えられ、且DOを低減させることができる。
請求項（抜粋）：
非磁性支持体の一面に金属薄膜よりなる磁性層が形成され、この上よりダイヤモンド状炭素保護膜層および潤滑層が形成された金属薄膜型磁気記録媒体において、非磁性支持体上に磁性層を形成させ、その表面を平均粒径が0.5μm以下の砥粒を用いた研磨層がベースフィルム上に形成された研磨テープでバニッシングする工程と、この上よりダイヤモンド状炭素保護膜層を形成させ、その表面をバフ研磨部材でバニッシングする工程とを有する金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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