特許

J-GLOBAL ID：200903044832132244

異物検査装置および異物検査方法

発明者： 羽根 博樹
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-409996
公開番号（公開出願番号）：特開2005-175042
出願日： 2003年12月09日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：

【課題】リソグラフィ工程で処理される被露光体の被露光面上における異物有無の検査を、当該被露光体の被露光面にダメージを与えることなく、正確でスループットよく行うことを可能にする。【解決手段】露光用マスクを用いてパターンが露光転写される被露光体7の被露光面7a上における異物有無を検査するための異物検査装置を、前記被露光面7aと平行にビーム13の照射を行うビーム照射手段11,12と、前記ビーム13の散乱光または遮光量を測定して前記被露光面7a上に存在する異物16を検出する異物検出手段14,15とを備えて構成するとともに、前記ビーム13の照射時における前記被露光面7aからの距離を前記露光用マスクと前記被露光面7aとのギャップ距離を基に設定する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

露光用マスクを用いてパターンが露光転写される被露光体の被露光面上における異物有無を検査するための異物検査装置であって、 前記被露光面と平行にビームの照射を行うビーム照射手段と、 前記ビームの散乱光または遮光量を測定して前記被露光面上に存在する異物を検出する異物検出手段とを備えるとともに、 前記ビームの照射時における前記被露光面からの距離が前記露光用マスクと前記被露光面とのギャップ距離を基に設定されている ことを特徴とする異物検査装置。

IPC (5件)：

H01L21/027 ,  G01N21/956 ,  G03F7/20 ,  H01J37/20 ,  H01J37/305

FI (5件)：

H01L21/30 541S ,  G01N21/956 A ,  G03F7/20 521 ,  H01J37/20 Z ,  H01J37/305 B

Fターム (17件)：

2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051BA10 ,  2G051BB09 ,  2G051BB11 ,  2G051CA03 ,  2G051CB05 ,  5C001AA02 ,  5C001AA07 ,  5C001AA08 ,  5C001CC06 ,  5C034BB06 ,  5C034BB10 ,  5F056AA22 ,  5F056AA25 ,  5F056CB35 ,  5F056FA05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第2951947号公報