特許
J-GLOBAL ID：200903044835402110
鋭利な先端を有する均一なアレーの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田澤 博昭 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-337591
公開番号（公開出願番号）：特開平8-036967
出願日： 1994年12月28日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、極めて鋭利なエミッタ端(13)のほぼ均一なアレーを形成する方法を提供することを目的とする。【構成】 本発明の方法は、基板(11)をマスク(30)とともにパターン配置してアレーを区画する工程と、このアレーに等方性エッチングを施して尖端(13)を形成する工程と、ほぼすべての尖端(13)が鋭利になった時点でマスク(30)を除去する工程を含む。マスク(30)は、すべての尖端(13)がほぼ同じ形状になるまで、尖端(13)の頂点でバランスを保って留まることができるような組成と構成を有し、ほぼ均一な尖端(13)のアレーを形成するのに用いられる。
請求項（抜粋）：
鋭利なエミッタ端(13)のほぼ均一なアレーの形成方法であって、基板(11)をマスクして、マスクを装着したアレーを形成する工程と、前記基板(11)をプラズマエッチングして尖端(13)のアレーを形成する工程であって、この基板のプラズマエッチングは、前記マスク(30)が前記尖端(13)の上にバランスを保ってとどまっている間アンダーカットが完了した後も継続される工程と、電子エミッタとして働く前記尖端(13)のほとんどすべてが鋭利になったとき、前記マスク(30)を除去する工程を含む方法。
IPC (2件)：
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