特許

J-GLOBAL ID：200903044842426521

防汚性化粧板

発明者： 安藤 三津雄 ,  鈴木 康史
出願人/特許権者： アイカ工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-087644
公開番号（公開出願番号）：特開2003-276149
出願日： 2002年03月27日
公開日（公表日）： 2003年09月30日
要約：

【要約】【課題】 表面に付着した汚染物質を光により分解する。【解決手段】 基材1と,樹脂含浸化粧紙2と,樹脂含浸表面紙3と,プラスチックフィルムにシリコーン系バインダーを塗布したシリコーン塗布フィルムを順次積層し,熱圧成形後,該プラスチックフィルムを除去し,光触媒コーティング剤を塗布する。

請求項（抜粋）：

基材と,樹脂含浸化粧紙と,プラスチックフィルムにシリコーン系バインダーが塗布されたシリコーン塗布フィルムとを順次積層し,熱圧成形後,該プラスチックフィルムを除去し,光触媒コーティング剤を塗布してなることを特徴とする防汚性化粧板。

IPC (4件)：

B32B 33/00 ,  B01J 35/02 ,  C08J 7/04 CFD ,  C08L101:00

FI (4件)：

B32B 33/00 ,  B01J 35/02 J ,  C08J 7/04 CFD E ,  C08L101:00

Fターム (47件)：

4F006AA12 ,  4F006AA17 ,  4F006AA18 ,  4F006AA22 ,  4F006AA35 ,  4F006AA36 ,  4F006AA38 ,  4F006AB39 ,  4F006AB67 ,  4F006BA01 ,  4F100AA21C ,  4F100AK01B ,  4F100AK01D ,  4F100AK25C ,  4F100AK25G ,  4F100AK36B ,  4F100AK36D ,  4F100AK52C ,  4F100AK52G ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA13 ,  4F100CC00C ,  4F100DG10B ,  4F100DG10D ,  4F100EJ65 ,  4F100EJ82B ,  4F100EJ82D ,  4F100GB08 ,  4F100HB00B ,  4F100JL06 ,  4F100JL08C ,  4F100JM01G ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04B ,  4G069BA22B ,  4G069BA48A ,  4G069BD05B ,  4G069CA11 ,  4G069EA08 ,  4G069ED04 ,  4G069FB23

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 有機物分解機能を有する化粧シート及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-303311   出願人：日本デコール株式会社
• 表装材のための表面処理シート及び表面処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-339481   出願人：日本デコール株式会社
• 抗菌化粧シート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-086103   出願人：大日本印刷株式会社
• 化粧板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-222441   出願人：イビデン株式会社