特許

J-GLOBAL ID：200903044857643960

露光方法

発明者： 村田 実
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-292361
公開番号（公開出願番号）：特開平9-134864
出願日： 1995年11月10日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：

【要約】【課題】 走査露光型の露光装置において、位置合わせ精度を維持したままスループットを向上させる。【解決手段】 あるショット領域での露光が終了後、XYステージは位置y1 (Y座標値)から目標位置y2 (Y座標値)で示す走査開始位置まで移動し、その走査開始位置で速度がほぼ0に減速して暫く振動した後、所定のサンプリング回数の測定値の目標位置y2 からのずれ量が走査開始位置での許容範囲εS 内に収束した時刻t3から走査を開始する。許容範囲εS の値は露光時の許容範囲εEより極めて緩い値となっており、これにより整定時間TS を短縮する。走査開始位置で発生した位置決め誤差は、走査開始時刻t3から露光開始時刻迄の間に補正する。

請求項（抜粋）：

露光光のもとでマスク上のパターンの一部を感光性の基板上に投射した状態で、前記マスクと前記基板とを同期走査することにより前記パターンを前記基板上の各ショット領域に逐次転写露光する露光方法において、前記基板上の各ショット領域の走査開始位置への位置決め精度を露光時の位置決め精度より緩くすることを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 W

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-142952   出願人：株式会社ニコン
• パターニング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-158597   出願人：ソニー株式会社
• 走査型露光装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-266111   出願人：キヤノン株式会社