特許
J-GLOBAL ID：200903044858283640
投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-218100
公開番号（公開出願番号）：特開平5-041345
出願日： 1991年08月05日
公開日（公表日）： 1993年02月19日
要約：
【要約】【目的】 実際の露光によるレジストパタン形成に要求される結像のコントラストを良くし、しかもその周波数特性を高める。【構成】 投影光学系の開口絞り部に円環状フィルタ13を設け、その外周部15の光の振幅透過率を調整し、中央部14を完全透過とし、また斜入射照明の光源の像が透過率を調整された外周領域に対応するようにする。これによって、フィルタ11の透過率を調整することにより、必要とする像コントラストに応じて最大の周波数領域を確保することができる。
請求項（抜粋）：
パタンの描かれたマスクを照射して投影光学系を用いてその像を形成してパタン形成を行う微細パタン投影露光装置において、マスクを照射する光線に関して、投影光学系の開口数に対応した角度の傾きを光軸に対して与えるとともに、投影光学系の開口絞り部に、照明系の光源の像に対応する開口周辺部の振幅透過率を0.2〜0.6,その他の開口中央部の振幅透過率を1に設定したフィルタを配置するようにしたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
