特許

J-GLOBAL ID：200903044859319222

投光装置、撮影装置および観察装置

発明者： 大村 祐介
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 岸田 正行 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-226271
公開番号（公開出願番号）：特開2002-116376
出願日： 2001年07月26日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：

【要約】【課題】 焦点検出領域の拡大化の要求に伴い、良好な結像状態を維持しつつパターン像の投影範囲を拡大しなくてはならない。【解決手段】 撮影系若しくは観察系の焦点状態を位相差方式で検出するために被写体にパターン像を投影する投光装置において、第1の方向に伸びる第1のパターン4-Aを、被写体上の中央焦点検出領域を含み該第1の方向に並んだ複数の位置に投影する第1の投影系Aと、第2の方向に伸びる第2のパターン4-Bを、被写体上の中央焦点検出領域を含み該第2の方向に並んだ複数の位置に投影する第2の投影系Bとを設ける。

請求項（抜粋）：

撮影系若しくは観察系の焦点状態を位相差方式で検出するために被写体にパターン像を投影する投光装置であって、第1の方向に伸びる第1のパターンを、被写体上の中央焦点検出領域を含み該第1の方向に並んだ複数の位置に投影する第1の投影系と、第2の方向に伸びる第2のパターンを、被写体上の中央焦点検出領域を含み該第2の方向に並んだ複数の位置に投影する第2の投影系とを有することを特徴とする投光装置。

IPC (3件)：

G02B 7/28 ,  G02B 7/34 ,  G03B 13/36

FI (3件)：

G02B 7/11 Z ,  G02B 7/11 C ,  G03B 3/00 A

Fターム (13件)：

2H011AA01 ,  2H011BA21 ,  2H011BB01 ,  2H011DA08 ,  2H051BA02 ,  2H051BA18 ,  2H051BA20 ,  2H051CC04 ,  2H051CC05 ,  2H051CC07 ,  2H051CC13 ,  2H051DA08 ,  2H051EB19