特許

J-GLOBAL ID：200903044893538162

ポリイミド・シリカ複合膜およびそれから形成するシリカ膜

発明者： 今井 淑夫 ,  柿本 雅明 ,  森川 敦司 ,  山口 英宏
出願人/特許権者： 今井 淑夫 ,  セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 坂本 栄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-097804
公開番号（公開出願番号）：特開平5-294609
出願日： 1992年04月17日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：

【要約】【目的】 シリカ成分が膜全体に広がった機械的強度の改良されたポリイミド・シリカ複合膜および粒径が1μm以下で均一に揃ったシリカ粒子からなるシリカ膜を提供する。【構成】 芳香族ポリアミド酸のアミン塩とケイ素のアルコキシド(ケイ素のアルコキシドの部分縮合物を含む。)をアルコール類に溶解した溶液を基板に流延または塗布し、一旦膜を形成した後、さらに分解温度以下において焼成して得られるポリイミド・シリカ複合膜および分解温度以上において焼成することにより得られる基板に付着するかもしくは自立性のシリカ膜。

請求項（抜粋）：

少なくとも芳香族ポリアミド酸のアミン塩とケイ素のアルコキシド(ケイ素のアルコキシドの部分縮合物を含む。)をアルコール類に溶解してなる溶液を基板に流延または塗布してポリイミド・シリカ複合膜を形成し、該膜の分解温度以下において焼成することにより形成するポリイミド・シリカ複合膜。

IPC (5件)：

C01B 33/12 ,  C03C 11/00 ,  C08L 79/08 LRC ,  C04B 35/00 108 ,  C04B 35/14