特許
J-GLOBAL ID：200903044895126295
基板回転処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲岡 耕作 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-081850
公開番号（公開出願番号）：特開平11-283948
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】処理液の飛び出しを防止でき、かつ、ダウンフローの利用も可能な基板回転処理装置を提供する。【解決手段】ウエハWを保持して回転するスピンチャック1は、処理カップ3内に収容されており、この処理カップ3は、処理チャンバ5に収容されている。処理チャンバ5の上方の開口4は、第1の蓋体21および第2の蓋体22によって閉塞されている。第1および第2の蓋体21,22は、それぞれ複数の開口部25,26を有しており、これらは、間隔dを開けて上下に重ね合わせて配設されている。開口部25,26は、平面視において互いに重なり合わないように配置されている。そのため、ウエハWの裏面に処理液を供給する裏面ノズルN3,N4からの処理液の直線経路L3,L4は、第1の蓋体21または第2の蓋体22によって遮断されている。
請求項（抜粋）：
基板を回転させつつ基板に所定の処理を施す基板回転処理装置において、基板をほぼ水平に保持しつつ回転させる回転手段と、回転手段に保持されている基板の裏面に所定の処理液を供給する基板処理液供給手段と、上方を開放した状態で上記回転手段を囲繞し、基板に供給された処理液が、周囲に飛散することを防止する囲繞手段と、この囲繞手段の上方に配置され、ダウンフローを上記囲繞手段の内部に供給するための開口部を有する第1の蓋体と、平面視において上記第1の蓋体の開口部を遮蔽するとともに、ダウンフローを取り込むための開口部を有し、この開口部から取り込まれたダウンフローを上記第1の蓋体の開口部へと供給できるように上記第1の蓋体の上方に配置された第2の蓋体とを含むことを特徴とする基板回転処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 643
, H01L 21/304 651
, H01L 21/304
, F26B 11/08
H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 651 B
, H01L 21/304 651 A
, F26B 11/08
