特許
J-GLOBAL ID:200903044913910144
地盤改良体造成工法及びその装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小島 高城郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-297704
公開番号(公開出願番号):特開平11-117287
出願日: 1997年10月15日
公開日(公表日): 1999年04月27日
要約:
【要約】【課題】 削孔機能を持った注入ロッドにて、対象地盤を掘削進行する際も時間的経済的無駄を無くすることにより、確実で効率的に大径の地盤改良体を造成できる工法ないし装置を提供する。【解決手段】 所望の深度の上端まで削孔挿入する第1工程と、設置箇所等に工夫を凝らした3つの噴射ノズルから、清水またはエアを高圧噴射することにより、予め、所望の大径空洞部を削孔する第2工程と、既に穿かれた空洞部に硬化剤を充填する第3工程とからなる造成工法と装置。
請求項(抜粋):
互いに隔絶された三流路の注入管とそれに連通する3つの噴射ノズルを具備する注入ロッドを用いて地盤中に地盤改良体を造成する地盤改良体造成工法において、まず、該注入ロッドを、地盤改良体を造成せんとする所望の深度の上端まで、削孔ビットにて回転しつつ削孔挿入し、次いで、引き続き削孔しつつも、希望する地盤改良体造成のための空洞を予め形成すべく、清水を、ロッド先端部にあるモニタ部近傍であって該ロッドの軸上略同位置に設けられた第1及び第2噴射ノズルから高圧噴射するとともに、該第1及び第2噴射ノズルの後方、即ちスイベル側よりに設けられた第3噴射ノズルから仕上げ用清水又はエアを高圧噴射しつつ、所望の深度まで大径削孔し、最後に、所望深度から後方へ注入ロッドを回転後退しつつ、上記第1、第2及び第3噴射ノズルから硬化剤を高圧噴射し、所望の深度上端、即ち形成希望の地盤改良体の上端まで該ロッドを引き上げることにより、大径の地盤改良体を造成することを特徴とする地盤改良体造成工法。
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開昭54-057305
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特開昭61-207712
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特開昭54-090811
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