特許
J-GLOBAL ID：200903044956309061
ポリフェニレンスルフィド系ポリマーアロイ
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-123503
公開番号（公開出願番号）：特開2001-302916
出願日： 2000年04月25日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 ポリフェニレンスルフィド樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂からなるポリマーアロイの加工時における“やけ”および“炭化物生成”を減少させ、さらにはポリマーアロイとしての分散構造を制御し、成型品のウェルド強度に優れたポリマーアロイを提供する。【解決手段】 (a)塩化メチレンによる抽出量が0.7重量%以下であり、かつ-SX基(Sはイオウ原子、Xはアルカリ金属または水素原子である)が15μmol/g以上であるポリフェニレンスルフィド樹脂5〜95重量部、(b)エポキシ基、オキサゾリン基から選ばれる少なくとも一種の官能基を有する官能化ポリフェニレンエーテル樹脂95〜5重量部を含むことを特徴とするポリフェニレンサルファイド系ポリマーアロイ。
請求項（抜粋）：
(a)塩化メチレンによる抽出量が0.7重量%以下であり、かつ-SX基(Sはイオウ原子、Xはアルカリ金属または水素原子である)が15μmol/g以上であるポリフェニレンスルフィド樹脂5〜95重量部、(b)エポキシ基、オキサゾリン基から選ばれる少なくとも一種の官能基を有する官能化ポリフェニレンエーテル樹脂95〜5重量部を含むことを特徴とするポリフェニレンサルファイド系ポリマーアロイ。
IPC (4件)：
C08L 81/02
, C08L 23/02
, C08L 53/02
, C08L 71/12
C08L 81/02
, C08L 23/02
, C08L 53/02
, C08L 71/12
4J002BB104
, 4J002BB144
, 4J002BB174
, 4J002BB194
, 4J002BP013
, 4J002CH07X
, 4J002CN01W
