レジスト用重合体の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：宮崎昭夫 , 石橋政幸 , 岩田慎一 , 緒方雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-321906
公開番号（公開出願番号）：特開2006-131739
出願日： 2004年11月05日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：

【課題】 DUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、レジスト組成物としたときの保存安定性に優れたレジスト用重合体を製造する方法、この方法で得られたレジスト用重合体を含むレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。【解決手段】下記式(1) 【化1】で表され、かつ、基Aのメチル基の水素原子の少なくとも1つが0.150以上の部分電荷を持つ構成単位(A1)を含有するレジスト用重合体の製造方法であって、溶液重合法により生成した重合体溶液を、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、ニトロ化合物、ニトリル、エーテル、ケトン、エステル、カーボネートから選ばれる少なくとも1種以上の有機溶媒中に添加することにより沈殿又は再沈殿して得られることを特徴とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)

IPC (4件)：

C08F 220/28 , C08F 2/06 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (4件)：

C08F220/28 , C08F2/06 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (31件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA11 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 4J011AA05 , 4J011HB29 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA02P , 4J100BA11Q , 4J100BC01P , 4J100BC12R , 4J100BC15R , 4J100BC53Q , 4J100CA03 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

特許第2907144号公報

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