特許
J-GLOBAL ID:200903044963531985

導電性Ta系膜形成材料、導電性Ta系膜形成方法、及び配線膜形成方法、並びにULSI

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宇高 克己
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-070753
公開番号(公開出願番号):特開2000-265274
出願日: 1999年03月16日
公開日(公表日): 2000年09月26日
要約:
【要約】【課題】 使い易い導電性Ta系膜形成材料を提供することである。【解決手段】 金属タンタル、炭化タンタル、窒化タンタル、珪化タンタル、窒珪化タンタル等の導電性のTa系膜を形成する材料であって、Taを有する化合物と、炭化水素系の溶媒及び/又はアミン系の溶媒とを含む導電性Ta系膜形成材料。
請求項(抜粋):
導電性のTa系膜を形成する材料であって、Taを有する化合物と、炭化水素系の溶媒とを含むことを特徴とする導電性Ta系膜形成材料。
IPC (12件):
C23C 16/18 ,  B01J 19/00 ,  C23C 16/32 ,  C23C 16/34 ,  C23C 16/42 ,  H01B 1/02 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00 503 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/285 301 ,  H01L 21/3205 ,  C07F 9/00
FI (12件):
C23C 16/18 ,  B01J 19/00 K ,  C23C 16/32 ,  C23C 16/34 ,  C23C 16/42 ,  H01B 1/02 Z ,  H01B 5/14 Z ,  H01B 13/00 503 Z ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/285 301 R ,  C07F 9/00 Z ,  H01L 21/88 R
Fターム (57件):
4G075AA24 ,  4G075BA05 ,  4G075BC04 ,  4G075CA02 ,  4G075CA32 ,  4G075CA47 ,  4G075CA62 ,  4H050AA03 ,  4H050AA05 ,  4H050AB78 ,  4H050WB12 ,  4H050WB14 ,  4H050WB15 ,  4H050WB16 ,  4H050WB17 ,  4H050WB21 ,  4K030AA02 ,  4K030AA03 ,  4K030AA04 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA11 ,  4K030AA13 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030AA24 ,  4K030BA17 ,  4K030CA04 ,  4K030EA01 ,  4K030FA01 ,  4K030FA06 ,  4K030FA10 ,  4K030LA01 ,  4K030LA15 ,  4M104BB17 ,  4M104BB27 ,  4M104BB32 ,  4M104BB34 ,  4M104DD45 ,  5F033HH21 ,  5F033HH30 ,  5F033HH32 ,  5F033HH36 ,  5F033PP02 ,  5F033PP11 ,  5F033XX00 ,  5G301AA08 ,  5G301AA28 ,  5G301AA30 ,  5G301AB20 ,  5G301AD10 ,  5G301AE10 ,  5G307GA06 ,  5G307GA08 ,  5G307GB01 ,  5G307GC02 ,  5G323AA01
引用特許:
審査官引用 (1件)

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