特許

J-GLOBAL ID：200903044967704680

基板洗浄方法

発明者： 逢坂 勉
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-149531
公開番号（公開出願番号）：特開2001-327933
出願日： 2000年05月22日
公開日（公表日）： 2001年11月27日
要約：

【要約】【課題】 安定な表面状態で洗浄を終了することが可能であると共に、乾燥装置の内部汚染を防止することが可能な基板洗浄方法を提供する。【解決手段】 第1ステップS1において基板の表面を薬品処理し、次の第2ステップS2においてオゾン水を用いたリンスを行った後、第3ステップS3において純水を用いたリンスを行う。しかる後、第4ステップS4において基板の乾燥を行う。第1ステップS1と第2ステップS2との間に、純水を用いたリンスを行っても良い。

請求項（抜粋）：

基板の表面を薬品処理した後、オゾン水を用いてリンスを行う基板洗浄方法において、前記オゾン水を用いたリンスに続けて純水を用いたリンスを行うことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (3件)：

B08B 3/08 ,  B08B 3/04 ,  H01L 21/304 647

FI (3件)：

B08B 3/08 Z ,  B08B 3/04 A ,  H01L 21/304 647 Z

Fターム (10件)：

3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB21 ,  3B201BB89 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13