特許

J-GLOBAL ID：200903045000306192

カチオン発生剤溶液

発明者： 浜津 富三男 ,  横島 実 ,  遠藤 剛
出願人/特許権者： 日本化薬株式会社 ,  三新化学工業株式会社
代理人 (1件)： 川口 義雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-217328
公開番号（公開出願番号）：特開平6-041215
出願日： 1992年07月23日
公開日（公表日）： 1994年02月15日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、溶液化されたカチオン発生剤、詳しくは、カチオン重合性有機材料のための熱および/または光潜在性硬化触媒の触媒溶液あるいは室温硬化のための触媒型硬化剤溶液に関する。【構成】 沸点が120°C以上のエーテル化合物20〜95重量部に高活性スルホニウム塩80〜5 重量部と、場合により一液化安定用のスルホニウム塩を高活性スルホニウム塩に対して 0.1〜20重量%溶解させることを特徴とするカチオン発生剤溶液。【効果】 本発明で使用する高沸点エーテル化合物はスルホニウム塩に対して高い溶解性を有し、得られるカチオン発生剤溶液を用いたカチオン重合性有機材料組成物は、室温暗所下で貯蔵安定性に優れたカチオン発生剤溶液を提供する。

請求項（抜粋）：

沸点が120°C以上のエーテル化合物20〜95重量部に、式I【化1】で表わされるスルホニウム塩80〜5 重量部を溶解させることを特徴とするカチオン発生剤溶液(上記式中、R1 は水素、メチル基、アセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルオキシカルボニル基のいずれかであり、R2 ,R3 はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、C1 〜C4 のアルキル基のいずれかであり、Q1 はベンジル基、p-メチルベンジル基、o-メチルベンジル基、m-メチルベンジル基、p-ニトロベンジル基、o-ニトロベンジル基、m-ニトロベンジル基、ジニトロベンジル基、p-クロロベンジル基、m-クロロベンジル基、o-クロロベンジル基、α-ナフチルメチル基、メチル基、エチル基のいずれかであり、R4 はメチル基、エチル基のいずれかである。XはSbF6 ,PF6 ,AsF6 ,BF4 のいずれかである)。

IPC (3件)：

C08F 4/00 MFJ ,  C08F 2/50 MDN ,  C08G 85/00 NUY