特許
J-GLOBAL ID：200903045017283781
投影露光方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮井 暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-310269
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163350
出願日： 1992年11月19日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：
【要約】【目的】 照明系を最適化することにより、繰り返しパターンの線幅を変化させた場合に対しても、解像度と焦点深度を同時に向上させる。【構成】 照明光源をマスクの対角線方向に4分割し、かつ各々の分割された照明光Bの一部だけを瞳Aに入射させることを特徴とする投影露光方法。
請求項（抜粋）：
マスクパターンを基板上に投影する投影露光方法であって、瞳面に形成される2次光源像をマスクの対角線方向に4分割し、かつ各々の分割した照明光の一部だけを瞳に入射させることを特徴とする投影露光方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03B 27/54
, G03F 7/20 521
