位置検出方法及びその装置並びに露光方法及びその装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-079565
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246175
出願日： 1996年03月07日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】基板上の全ての微細パターンの位置をより高精度に検出する。【解決手段】0N次検出法による干渉式アライメント法により、得られる光量信号IA、IBより基板上の複数箇所の格子マークの位置ΔXjn' を、回路SA及び回路CAにより(各波長毎に)検出する。また、回路SAでは、光量信号IA、IBの相対走査に伴う変化及び格子マークの設計データに基づいて、各格子マークの段差相当量δn を、段差のマーク表面近傍の入射光ビームの各半波長に対する剰余として、各波長毎に算出する。そして、回路WEGAで各格子マークの段差相当量に応じて検出誤差が大きなマークの検出位置には小さな重みを、誤差が小さなマークの検出位置には大きな重みを付けて最小2乗法による統計処理により基板上の全ての微細パターンの位置(配列座標)を算出する。

請求項（抜粋）：

微細パターン、及び特定の方向に周期性(周期=P)を持って凹部と凸部を繰り返す位置検出用の格子マークが、複数ケ所(M個以上)にそれぞれ形成された基板に対し、前記複数ケ所の格子マークの前記周期方向の位置を検出し、かつそれらの検出位置を統計処理して、前記基板全面の前記微細パターンの位置を検出する位置検出方法であって、前記複数ケ所の格子マーク上に、可干渉な光ビームの対をそれぞれ入射し、振幅分布の周期が2P/N(Nは自然数)でその周期方向が前記各格子マークの周期方向に等しい干渉縞をそれぞれ形成するとともに、前記各干渉縞と前記格子マークとを前記周期方向に相対走査する第1工程と;前記複数ケ所の格子マークによる前記入射光ビームの反射・回折光のうち、第1の光ビームの正反射光と第2の光ビームのN次回折光との合成光束である第1の合成光束と、前記第2の光ビームの正反射光と前記第1の光ビームのN次回折光との合成光束である第2の合成光束とを、順次かつそれぞれ別々に受光して光電変換する第2工程と;前記第2工程で順次得られる前記第1、第2の合成光束の各光量信号の前記相対走査に伴う変化より、前記複数ケ所の格子マークの位置を順次検出する第3工程と;前記複数箇所の各格子マークの段差相当量を、前記第2工程で順次得られる第1、第2の合成光束の各光量信号の前記相対走査に伴う変化と前記各格子マークの設計データとに基づいて、前記各格子マークの段差を前記入射光ビームの当該各格子マーク表面近傍の媒質中での波長の半分で除した剰余として、順次算出する第4工程と;前記複数ケ所の中のj番目(jは1からM)の格子マークの前記段差相当量が、前記入射光ビームの当該j番目の格子マーク表面近傍での波長の1/4に近い場合には、該j番目の格子マークの検出位置に大きな重みを付け、前記波長の1/4から離れている場合には、該j番目の格子マークの検出位置に小さな重みを付けて前記複数箇所の格子マークの検出位置を統計処理して前記基板全面の前記微細パターンの位置を算出する第5工程とを含む位置検出方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (8件)：

H01L 21/30 525 B , G03F 9/00 H , H01L 21/30 522 D , H01L 21/30 525 M , H01L 21/30 525 R , H01L 21/30 525 W , H01L 21/30 525 X , H01L 21/30 525 N

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