特許
J-GLOBAL ID：200903045032025080
エンジニアリングレジンープロピレンポリマーグラフト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-090155
公開番号（公開出願番号）：特開平6-016899
出願日： 1993年04月16日
公開日（公表日）： 1994年01月25日
要約：
【要約】【構成】 (a)ポリフェニレンエーテル樹脂又はポリアミド樹脂あるいはポリエステル樹脂;(b)グリシジル成分と共重合したスチレン系ポリマーとグリシジル成分-スチレン系グラフトプロピレンポリマー物質;場合により(c)(1)1つ又はそれ以上のモノアルケニル芳香族炭化水素ー共役ジエンブロックコポリマー、その水素化生成物又はそれらの化合物、及び場合による(2)オレフィンコポリマーゴム、を含む樹脂組成物、及びさらにプロピレンポリマー物質を含む樹脂組成物。【効果】 この組成物は離層に対する高い耐性を示してエンジニアリングレジンとプロピレンポリマー物質との間の改良された相容性を示す。
請求項（抜粋）：
重量基準で(a)(i) ポリフェニレンエーテル樹脂、(ii)ポリアミド樹脂又は(iii) ポリエステル樹脂からなる群から選ばれる樹脂物質約10〜約90%;(b)スチレン系ポリマー及びグリシジル成分でグラフトされ、さらに前記グリシジル成分と共重合した前記スチレン系ポリマーを分離成分として含むプロピレンポリマー物質(前記プロピレンポリマー物質のグラフト化の間に添加されたスチレン系及びグリシジル成分モノマーの全濃度は前記プロピレンポリマー100重量部あたり約50〜約200重量部であり、前記グリシジル成分モノマーは前記グラフト化の間に前記全モノマー濃度の約0.1〜約20.0重量%の濃度で存在する)約10〜約90%;場合により(c)(1) (i) モノアルケニル芳香族炭化水素ー共役ジエンブロックコポリマー、(ii)成分(i) の水素化生成物又は(iii) 成分(i) と(ii)の混合物の少なくとも1つ約0〜100%;及び(2) オレフィンコポリマーゴム約100〜0%を含む少なくとも1つのゴムポリマー成分約1〜約25%を含み、(a)+(b)+(c)の全量が100%である組成物。
IPC (6件)：
C08L 51/06 LLE
, C08L 23/00 LBZ
, C08L 53/02 LLY
, C08L 67/02 LNZ
, C08L 71/12 LQP
, C08L 77/00 LQS
