特許

J-GLOBAL ID：200903045042332070

イオンビーム装置

発明者： 登木口 克己 ,  雨宮 健介 ,  伊藤 純也 ,  関 孝義
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-340297
公開番号（公開出願番号）：特開平9-180662
出願日： 1995年12月27日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】イオン注入や加速器に用いる数十〜百mA級の重イオンビーム装置で、ビームの空間電荷を中和してビームの発散を防ぎ、大電流ビームを効率良く輸送、利用できるようにする。【解決手段】質量分離器の磁場を使い、5GHz以上の周波数のマイクロ波による電子サイクロトロン共鳴プラズマを作り、そのプラズマ電子によりイオンビームの空間電荷を中和する。

請求項（抜粋）：

イオンビームを発生するイオン源、前記イオン源から引出されたイオンビームの中から特定のイオン種を選別するための磁場型質量分離器、質量分離されたイオンビームを試料基板に打込むためのイオン打込み室や質量分離イオンを更に加速するための加速器を含むイオンビーム装置において、前記磁場型質量分離器の分析管内にマイクロ波電波と微量な放電ガスを導入し、前記分析管内でプラズマを生成させることを特徴とするイオンビーム装置。

IPC (4件)：

H01J 37/05 ,  H01J 27/16 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317

FI (4件)：

H01J 37/05 ,  H01J 27/16 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317 Z