特許
J-GLOBAL ID：200903045048864510
走査型プローブ顕微鏡用のプローブの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-249135
公開番号（公開出願番号）：特開平6-102006
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1994年04月12日
要約：
【要約】【目的】走査型プローブ顕微鏡の解像度を向上させる。【構成】シリコン基板(11)上に酸化珪素膜(13)を形成する(第1工程)。エッチング法で溝を形成する(第2工程)。溝部を酸化し、酸化珪素(12)を形成する(第3工程)。皮膜A(14)を全面に形成し、次いでこれをレバー形状にパターニングする(第4工程)。皮膜A(14)を介して支持台(15)をシリコン基板(11)と接合する(第5工程)。シリコン基板(11)並びに酸化珪素膜(12)をエッチングにより法で除去する(第6工程)。これらの製造方法で走査型プローブ顕微鏡用のプローブを製造する。
請求項（抜粋）：
第1工程:シリコン基板上に酸化珪素膜からなるマスクを形成する工程;第2工程:エッチング法により溝を形成する工程;第3工程:前記溝の表面を酸化することにより、酸化珪素膜を形成する工程;第4工程:皮膜Aを全面に形成し、次いでこれをレバー形状にパターニングする工程;第5工程:前記皮膜Aを介して支持台を前記シリコン基板と接合する工程;第6工程:前記シリコン基板並びに前記マスク及び前記酸化珪素膜にエッチングにより除去する工程;からなる走査型プローブ顕微鏡用のプローブの製造方法。
IPC (3件)：
G01B 7/34
, H01J 9/14
, H01J 37/28
