特許
J-GLOBAL ID：200903045049891430

荷電粒子ビーム露光方法、該方法を実行する装置、及び該方法に用いられる位置検出マーク形成体

発明者：
小島 義克

小島 義克 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 五十嵐 省三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-070875
公開番号（公開出願番号）：特開平8-241855
出願日： 1995年03月04日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：
【要約】【目的】 電子ビームによる走査回数を減らして検出時間の短縮し、また、高精度なマーク位置検出が可能にすること。【構成】 アパーチャマスク2の開口2aを通過した電子ビームEB1によりアパーチャマスク3のマーク検出用開口3bを照射し、3本の電子ビームEB2’を得る。これら3本の電子ビームEB2’を位置合わせマーク6bに一括に露光走査して位置合わせマークの数に応じた強度の反射電子信号を反射電子検出器11にて発生する。
請求項（抜粋）：
複数の荷電粒子ビーム(EB2’、EB2”)により位置合わせマーク(6b、6c、6d)を同時に露光走査させて該位置合わせマークを検出する荷電粒子ビーム露光方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (5件)：
H01L 21/30 541 K ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 541 S
引用特許：
審査官引用 (9件)
  • 特開昭59-184524
  • 特開昭62-147725
  • 特開昭58-056419
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