特許

J-GLOBAL ID：200903045051389696

電子ビーム露光装置

発明者： 安藤 公明 ,  依田 晴夫 ,  奥村 正秀
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-320253
公開番号（公開出願番号）：特開平5-160008
出願日： 1991年12月04日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：

【要約】【構成】電子ビーム露光装置において、ステージ位置検出回路11の出力と目標位置設定回路9との誤差を誤差検出回路10で検出し、ステージフィードバックDAC17を介して加算回路15で描画データ用の副偏向DAC16の出力と加算し、副偏向電極に印加しビームを偏向して図形を描画する電子ビーム露光装置で、副偏向DAC16とステージフィードバックDAC17の入力部分にゲイン/オフセット補正回路6とゲイン/オフセット補正回路8とを設け、これをCPU1で制御し、副偏向DAC16とステージフィードバックDAC17との間で生じるゲインとオフセットの誤差を補正する。【効果】副偏向DACとステージフィードバックDACとの間で生じるゲインやオフセットの誤差を補正でき、高精度にパターンを描画することができる。

請求項（抜粋）：

試料を搭載したステージを連続移動し、描画すべきパターンの位置データとステージの位置誤差データとを加算して、一つの副偏向電極に印加し、前記パターンを前記試料上に描画する電子ビーム露光装置において、副偏向データ発生手段と副偏向DA変換手段との間と、ステージ位置誤差検出手段とステージフィードバックDA変換手段との間の、両方またはどちらか一方に、前記DA変換手段のゲイン調整手段とオフセット調整手段を設け、前記ゲイン調整とオフセット調整を、描画制御用計算機から行なうことを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305

FI (2件)：

H01L 21/30 341 J ,  H01L 21/30 341 D