特許

J-GLOBAL ID：200903045056715320

プラズマ処理装置

発明者： 土 肥 孝 好
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-245442
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077390
出願日： 1998年08月31日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：

【要約】【課題】 サセプタに高周波を印加しつつも、異常放電を防止する。【解決手段】 反応性ガスを流入、流出可能としたチャンバと、このチャンバ内に設けられ、被処理物を支持するサセプタと、このサセプタに第1の高周波信号を印加する第1の高周波電源と、前記チャンバ内又は外に配置され前記反応ガスを励起可能にする励起手段と、この励起手段に第2の高周波信号を印加する第2の高周波電源と、前記チャンバと前記サセプタとの間の電圧をモニタする電圧モニタ手段と、この電圧が所定値を越えたときに前記第1の高周波電源をコントロールして前記電圧を前記所定値以下に設定するコントロール手段と、を備えるものとして構成される。

請求項（抜粋）：

反応性ガスを流入、流出可能としたチャンバと、このチャンバ内に設けられ、被処理物を支持するサセプタと、このサセプタに第1の高周波信号を印加する第1の高周波電源と、前記チャンバ内又は外に配置され前記反応ガスを励起可能にする励起手段と、この励起手段に第2の高周波信号を印加する第2の高周波電源と、前記チャンバと前記サセプタとの間の電圧をモニタする電圧モニタ手段と、この電圧が所定値を越えたときに前記第1の高周波電源をコントロールして前記電圧を前記所定値以下に設定するコントロール手段と、を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  H05H 1/46 ,  C23C 16/52 ,  C23F 4/00

FI (4件)：

H01L 21/302 A ,  H05H 1/46 L ,  C23C 16/52 ,  C23F 4/00 A

Fターム (35件)：

4K030BA29 ,  4K030DA04 ,  4K030DA08 ,  4K030FA03 ,  4K030FA04 ,  4K030HA07 ,  4K030JA17 ,  4K030JA18 ,  4K030KA30 ,  4K030KA32 ,  4K030KA41 ,  4K030LA15 ,  4K057DA20 ,  4K057DB06 ,  4K057DB08 ,  4K057DD01 ,  4K057DE01 ,  4K057DE06 ,  4K057DG15 ,  4K057DM02 ,  4K057DM17 ,  4K057DM18 ,  4K057DM28 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004CA03 ,  5F004CA06 ,  5F004CA08 ,  5F004DA04 ,  5F004DA18 ,  5F004DA26 ,  5F004DB02 ,  5F004DB15