特許

J-GLOBAL ID：200903045065304170

スルホンアミド構造を有する重合性エステル化合物、その重合体、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 渡辺 武 ,  金生 剛
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-168601
公開番号（公開出願番号）：特開2005-023304
出願日： 2004年06月07日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：

【解決手段】 下記一般式(1)又は(1’)で示される重合性エステル化合物。 【化1】(式中、R1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、R2は水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜10の鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を表す。Xは脂環構造を有する2価の飽和炭化水素基を表す。) 【効果】 300nm以下の波長、特にArFエキシマレーザー光を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、密着性、透明性及びエッチング耐性の全てに優れた、レジスト材料用の重合体の原料となるモノマーとして有効である。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)又は(1’)で示される重合性エステル化合物。

IPC (6件)：

C08F20/38 ,  C07C311/07 ,  C07C311/09 ,  C08F32/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (6件)：

C08F20/38 ,  C07C311/07 ,  C07C311/09 ,  C08F32/00 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (48件)：

2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB46 ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL26P ,  4J100AL26Q ,  4J100AL26R ,  4J100AR11P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA12Q ,  4J100BA12R ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA28P ,  4J100BA40R ,  4J100BA58P ,  4J100BB18P ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100BC08P ,  4J100BC12P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平4-39665号公報
  
• デバイス製造のためのパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-049956   出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド

審査官引用 (3件)

• 特表平4-502521
  
• 放射線感光材料及びパタ-ンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-065290   出願人：富士通株式会社
• 高分子シリコーン化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-029321   出願人：信越化学工業株式会社