特許
J-GLOBAL ID:200903045071193763

X線イメージ捕獲エレメントおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 谷 義一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-328814
公開番号(公開出願番号):特開平7-235652
出願日: 1994年12月28日
公開日(公表日): 1995年09月05日
要約:
【要約】【目的】 放射線非検出領域、すなわち盲目領域を最小化もしくは完全に回避できるX線イメージ捕獲エレメントを提供する。【構成】 頂面および底面を有するベースプレートと;該ベースプレートの頂面上に近接して配列されている複数個の個別のアレイモジュールであって、各モジュールが、少なくとも1つの他のモジュールに隣接されて配列されて、二次元のモジュールモザイクを構成し、これらモジュールの各々には、頂面と、前記ベースプレートの頂面と隣接した底面とを有する誘電体基板、および該誘電体基板の頂面に隣接して配列された複数のトランジスタが設けられている、複数個の個別のアレイモジュールと;前記複数のアレイモジュール上に配列され、入射放射線のパターンを表わす電荷を生成できる連続的な放射線検出層と;を有することを特徴とする。
請求項(抜粋):
頂面および底面を有するベースプレートと;該ベースプレートの頂面上に近接して配列されている複数個の個別のアレイモジュールであって、各モジュールが、少なくとも1つの他のモジュールに隣接されて配列されて、二次元のモジュールモザイクを構成し、これらモジュールの各々には、頂面と、前記ベースプレートの頂面と隣接した底面とを有する誘電体基板、および該誘電体基板の頂面に隣接して配列された複数のトランジスタが設けられている、複数個の個別のアレイモジュールと;前記複数のアレイモジュール上に配列され、入射放射線のパターンを表わす電荷を生成できる連続的な放射線検出層と、を有することを特徴とするX線イメージ捕獲エレメント。
IPC (7件):
H01L 27/14 ,  G01T 1/20 ,  G01T 1/24 ,  H01L 29/786 ,  H01L 31/09 ,  H01J 29/38 ,  H01L 31/10
FI (4件):
H01L 27/14 K ,  H01L 29/78 613 Z ,  H01L 31/00 A ,  H01L 31/10 A
引用特許:
審査官引用 (1件)

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