特許

J-GLOBAL ID：200903045071475025

光導波路の製造方法

発明者： 室谷 裕志 ,  若木 守明
出願人/特許権者： 株式会社日本製鋼所 ,  若木 守明
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-165021
公開番号（公開出願番号）：特開平6-003544
出願日： 1992年06月23日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：

【要約】【目的】 本発明は光導波路の製造方法に関し、特に、パターン装置等を用いることなく、レーザー光により直接光導波路を形成することを特徴とする。【構成】 本発明による光導波路の製造方法は、コンピュータ(2)に入力された設計データにより駆動されるレーザー光を酸化亜鉛膜(13a)に照射して光導波路を形成する方法である。

請求項（抜粋）：

コンピュータ(2)に入力された設計データに基づいて駆動されるレーザー光を酸化亜鉛膜(13a)に照射することにより光導波路を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。