特許

J-GLOBAL ID：200903045078905670

ミラーの洗浄装置及び照明光学装置

発明者： 古田 正寛
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (2件)： 渡辺 隆男 ,  大澤 圭司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-075602
公開番号（公開出願番号）：特開2005-268358
出願日： 2004年03月17日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：

【課題】 EUV照明光学装置において、EUV光源から発生するデブリ等の付着物が表面に付着し反射率の低下したミラーを真空中でデブリを除去し再利用可能とする洗浄装置、洗浄方法、及びこれらの機構を含む照明光学装置、露光装置の提供を目的とする。【手段】 光源の波長が60nm以下のEUV光を反射するミラーについて、真空に排気可能な真空チャンバー内で、前記ミラーにイオンビームを照射し、ミラー表面に付着した付着物を除去することにより、真空中のミラー洗浄が可能となりミラーの再利用をすることが可能となる。このような機構の装置を照明光学装置、露光装置と接続して真空中でのミラーの搬送した後、洗浄を行うことにより、時間的なロスがなくEUV光を連続して照明光学装置から供給することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

光源の波長が60nm以下のEUV光に用いられる光学部材について、 真空に排気可能な真空チャンバー内において、 前記真空チャンバー内にはイオン源を含んでおり、 前記イオン源からのイオンビームを前記光学部材に照射することにより、光学部材の表面に付着した付着物を除去することを特徴とする洗浄装置。

IPC (5件)：

H01L21/027 ,  B08B7/00 ,  G02B1/10 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06

FI (6件)：

H01L21/30 503G ,  B08B7/00 ,  G03F7/20 503 ,  G21K1/06 P ,  H01L21/30 531A ,  G02B1/10 Z

Fターム (14件)：

2H097AA02 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  2K009DD07 ,  2K009EE00 ,  3B116AA46 ,  3B116AB47 ,  3B116BB77 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11 ,  5F046AA17 ,  5F046GA07 ,  5F046GA20 ,  5F046GB01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• X線光源用デブリ除去装置及び、デブリ除去装置を用いた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-205319   出願人：キヤノン株式会社