特許

J-GLOBAL ID：200903045097517311

レジスト用現像液組成物

発明者： 佐藤 充 ,  田中 初幸 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 皿田 秀夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-291530
公開番号（公開出願番号）：特開平7-128865
出願日： 1993年10月28日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：

【要約】【目的】 良好なレジストパターンが得られるとともに、現像処理後の現像液の消泡性に極めて優れたレジスト用現像液組成物を提供する。【構成】 金属イオンを含まない有機塩基を主剤とするレジスト用現像液に、ポリオキシプロピレンモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコール及びポリオキシエチレンモノアルキルエーテルの中から選ばれる少なくとも一種を添加するように構成する。

請求項（抜粋）：

金属イオンを含まない有機塩基を主剤とするレジスト用現像液に、ポリオキシプロピレンモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコール及びポリオキシエチレンモノアルキルエーテルの中から選ばれる少なくとも一種を添加したことを特徴とするレジスト用現像液組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/32 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-133460
  
• 特開平1-257846
  
• 特開昭63-170640