特許
J-GLOBAL ID：200903045100424060
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-161548
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012523
出願日： 1996年06月21日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：
【要約】【課題】 処理液ミストの逆拡散による基板の汚染を防止し、かつ処理液の排出と回収の切換えが行える基板処理装置を提供する。【解決手段】 処理槽42で捕集された処理液(洗浄液または薬液)と雰囲気をまとめて排出し、それを切換えバルブ70の切換えにより洗浄液は気液分離容器80aに、薬液は気液分離容器80bに送り、さらに気液分離容器80aおよび80bで薬液または洗浄液と雰囲気を分離し、分離された雰囲気は排気ラインによって排出するとともに、気液分離容器80bで分離された薬液は薬液タンク90に送給し、気液分離容器80aで分離された洗浄液は廃棄する。また、差圧計20の信号に基づいて排気抵抗調整バルブ60の開度を調節し密閉型シャッタ41が開いているときに雰囲気の排出量を多くし、密閉型シャッタ41が閉じているときに雰囲気の排出量を少なくするように制御する。
請求項（抜粋）：
第1処理液と第2処理液とを所定の順序で選択して基板の表面に順次に供給することによって前記基板の表面処理を行う基板処理装置であって、前記第1処理液を貯留する処理液貯留手段と、前記処理液貯留手段から前記基板へと前記第1処理液を供給する第1処理液供給手段と、前記第2処理液を前記基板に供給する第2処理液供給手段と、前記第1処理液と前記第2処理液とのうち、その時点で前記基板に供給された処理液を使用後処理液として基板近傍を通過した雰囲気とともに捕集する捕集手段と、前記捕集手段に連結されて、(i)前記使用後処理液が前記第1処理液であるときには、前記捕集された前記第1処理液と前記基板近傍を通過した雰囲気とを第1排出経路に排出させる第1状態と、(ii)前記使用後処理液が前記第2処理液であるときには、前記捕集された前記第2処理液と前記基板近傍を通過した雰囲気とを第2排出経路に排出させる第2状態と、を切換え可能な切換えバルブと、前記第1排出経路に連結されて、前記第1処理液と前記基板近傍を通過した雰囲気とを分離する第1気液分離手段と、前記第1気液分離手段で分離された前記第1処理液を前記処理液貯留手段へと帰還させる帰還ラインと、前記第2排出経路に連結されて、前記第2処理液と前記基板近傍を通過した雰囲気とを分離し、前記第2処理液を廃液ラインに導出する第2気液分離手段と、前記第1気液分離手段および前記第2気液分離手段のそれぞれで分離された前記基板近傍を通過した雰囲気を排気ラインに導く排気導出手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 501
, H01L 21/304 341
, H01L 21/306
H01L 21/30 569 C
, G03F 7/30 501
, H01L 21/304 341 N
, H01L 21/306 J
