特許

J-GLOBAL ID：200903045101213314

投影光学系、露光装置および露光方法

発明者： 大村 泰弘 ,  小澤 稔彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-101096
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297729
出願日： 2002年04月03日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：

【要約】【課題】 たとえば蛍石のような固有複屈折を示す結晶材料を用いても、複屈折の影響を実質的に受けることなく良好な光学性能を有する投影光学系。【解決手段】 結晶材料で形成された結晶透過部材を含み、第1面(R)の像を第2面(W)に形成する投影光学系。結晶透過部材に起因して発生する互いに直交する偏光成分の間の位相差を補正するための光透過性の位相補正部材(PC)を備えている。位相補正部材は、一軸性結晶で形成され且つその光学軸が光学系の光軸(AX1)とほぼ一致するように形成されている。

請求項（抜粋）：

結晶材料で形成された結晶透過部材を含み、第1面の像を第2面に形成する投影光学系において、前記結晶透過部材に起因して発生する互いに直交する偏光成分の間の位相差を補正するための光透過性の位相補正部材を備えていることを特徴とする投影光学系。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G02B 1/02 ,  G02B 5/30 ,  G02B 13/24 ,  G02B 17/08 ,  G03F 7/20 521

FI (6件)：

G02B 1/02 ,  G02B 5/30 ,  G02B 13/24 ,  G02B 17/08 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (29件)：

2H049BA12 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BC12 ,  2H049BC21 ,  2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA04 ,  2H087PA10 ,  2H087PA11 ,  2H087PA13 ,  2H087PA15 ,  2H087PA17 ,  2H087PB10 ,  2H087PB11 ,  2H087PB13 ,  2H087PB17 ,  2H087RA37 ,  2H087RA42 ,  2H087TA01 ,  2H087TA04 ,  2H087TA05 ,  5F046BA04 ,  5F046CA07 ,  5F046CB03 ,  5F046CB10 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046CB27