特許
J-GLOBAL ID:200903045107211070

ホトレジストの現像およびストリップ用溶剤組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 頓宮 孝一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-234366
公開番号(公開出願番号):特開平5-216242
出願日: 1992年09月02日
公開日(公表日): 1993年08月27日
要約:
【要約】【目的】 フリーラジカル開始性の付加重合可能なホトレジスト、カチオン性の硬化したレジストとハンダマスクおよびバクレルホトレジストなどのための、単純で環境に適合した現像液とストリップ剤とを提供する。【構成】 この現像液とストリップ剤の両者は、すべての場合ガンマブチロラクトン、プロピレンカーボネートおよびベンジルアルコールを含み、また任意的に少量のメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテル、ホルムアミド、ニトロメタン、プロピレンオキシド、メチルエチルケトン、アセトンおよび水を含有している。
請求項(抜粋):
プロピレンカーボネート、ガンマブチロラクトンおよびベンジルアルコールからなる群より選ばれた高沸点溶剤から本質的に構成されるものである、フリーラジカル開始性の付加重合可能なホトレジスト用現像液。
IPC (3件):
G03F 7/32 ,  G03F 7/42 ,  H05K 3/06
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭58-223149
  • 特表平1-502059
  • 特開平2-166459
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