特許

J-GLOBAL ID：200903045108144075

欠陥判定方法

発明者： 鏡 一郎 ,  角田 大地
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 大澤 斌 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-388833
公開番号（公開出願番号）：特開2003-185592
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2003年07月03日
要約：

【要約】【課題】 許容可能な欠陥サイズが微細化される次世代型のフォトマスクにあっても、欠陥の判定を正確に行って、歩留まりの低下や納期遅れ等の問題が解消できる欠陥判定方法を提供する。【解決手段】 本欠陥判定方法では、欠陥の種類の判定が不可能である場合には判定を保留し、再洗浄した後に再び検査を行い、前回検出した欠陥が消滅していれば異物22と判定し、同じ位置に存在していれば、検査者が走査型電子顕微鏡を用いて欠陥の種類を最終的に判定する。これにより、許容可能な欠陥サイズが微細化される次世代型のフォトマスクにあっても、欠陥の判定を正確に行うことができる。

請求項（抜粋）：

基板のパターン形成面に金属薄膜パターンを形成したフォトマスクを洗浄液で洗浄する第1の工程と、欠陥検査装置を使用して欠陥を検出する第2の工程と、検出した欠陥の種類が判定可能な場合には、前記フォトマスクを洗浄し又は前記パターン形成面に修正を加えた後に後続の工程に移行し、検出した欠陥の種類が判定不可能な場合には判定を保留する第3の工程と、判定を保留した前記フォトマスクを洗浄液で再洗浄する第4の工程と、再洗浄後の前記フォトマスクに対して欠陥検査を行い、前回の検査時に検出した欠陥が消滅している場合には、欠陥の種類を異物と判定し、検出した欠陥が前回の検査時と同じ位置に存在する場合には、欠陥の種類を判定せずにその座標データを走査型電子顕微鏡に送信する第5の工程と、前記座標データが示す位置の欠陥を前記走査型電子顕微鏡で検査して、欠陥が異物であると判定した場合には、前記フォトマスクを洗浄した後に後続の工程に移行し、欠陥が微小金属片であると判定した場合には、前記パターン形成面に修正を加えた後に後続の工程に移行する第6の工程とを備えることを特徴とする欠陥判定方法。

IPC (3件)：

G01N 21/956 ,  G01N 23/225 ,  G03F 1/08

FI (3件)：

G01N 21/956 A ,  G01N 23/225 ,  G03F 1/08 S

Fターム (28件)：

2G001AA03 ,  2G001AA07 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001CA07 ,  2G001FA06 ,  2G001GA01 ,  2G001GA04 ,  2G001GA06 ,  2G001HA13 ,  2G001JA13 ,  2G001KA03 ,  2G001LA02 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051AC01 ,  2G051AC12 ,  2G051DA17 ,  2G051EA08 ,  2G051EA14 ,  2H095BA01 ,  2H095BB03 ,  2H095BD05 ,  2H095BD14 ,  2H095BD35