特許
J-GLOBAL ID：200903045114933936
基板加熱装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-278971
公開番号（公開出願番号）：特開平11-121324
出願日： 1997年10月13日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：
【要約】【課題】 基板全体を短時間でかつ均一な温度に加熱することが可能な基板加熱装置を提供する。【解決手段】 ヒータを内蔵する加熱プレート3の上方にカバー部材10が配置される。カバー部材10は処理空間用カバー11およびガス導入用カバー12を有する。処理空間用カバー11は加熱プレート3の上面を覆う蓋状に形成され、加熱プレート3の上面に載置されて処理空間18を形成する。処理空間用カバー11の天板部11aおよび側壁部11bの内面は鏡面状態に形成されている。加熱プレート3からの放射熱の熱線Aは鏡面状態の天板部11aおよび側壁部11bの内面で反射され、基板Wを加熱する。
請求項（抜粋）：
熱源を有する基台の上方を蓋部材で覆い、前記基台の上面と前記蓋部材との間に形成された処理空間内に基板を保持して加熱する基板加熱装置において、前記蓋部材の前記処理空間側の内面が鏡面状態に形成されたことを特徴とする基板加熱装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 567
, H05K 3/06 E
