LEP電源位相微調機構

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：川瀬茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-198000
公開番号（公開出願番号）：特開平7-029891
出願日： 1993年07月14日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：

【要約】【目的】 3以上のn枚の電極を中心角が2π/nをなすように回転対称の位置に配置し、各電極に2π/nの位相差を有する高周波を与え、回転電界を発生させて、これにより電子を回転させ、エッチングガスをプラズマにして、別異の高周波を印加した下部電極に載せたウエハをエッチングするようにしたドライエッチング装置において、各LEP電極に印加される位相差が厳密に2π/nでないことがある。この場合にプラズマ生成効率が低下する。これを防ぐのが目的である。【構成】各LEP電極に同じ高周波電源で発生した高周波を分配し、位相器により位相差を2π/nだけ与えるのであるが、この他に位相微調器を位相器の前または後に設けて、位相差を微調整する。

請求項（抜粋）：

真空に引くことのできるチャンバと、チャンバ内部の上方に互いに対向して2π/nの中心角をなし回転対称の位置に設けられるn枚のLEP電極(n≧3)と、LEP電極に印加するための高周波を発生する高周波電源と、高周波電源が発生した信号を分配し2π/nの位相差を与えてLEP電極に印加する電力分配供給部と、チャンバの下方に設けられエッチングすべき半導体ウエハを戴置すべき下部電極と、下部電極に高周波を印加する高周波電源とを含み、エッチングガスをチャンバ内に導入し回転電界によりこれをプラズマとし、ウエハをプラズマに含まれる粒子によってエッチングすることとしたドライエッチング装置であって、電力分配供給部が、各LEP電極のために分配された高周波信号に2π/nの位相差を与えるための位相器と、位相差が与えられた信号を増幅する電力増幅部と、高周波発振器と電極のインピーダンスの整合を取るための自動整合器と、位相器の前または後にあって、分配された高周波信号の位相を微調整する位相微調器とを含み、位相微調器を操作することにより、LEP電極の空間的な角度の差に、分配された高周波信号の位相差を合致させるようにしたことを特徴とするLEP電源位相微調機構。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 , C23F 4/00 , H05H 1/46

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭60-153129
特開昭62-273731
特開平3-257823

全件表示

前のページに戻る