特許

J-GLOBAL ID：200903045116493666

形状記憶合金アクチュエータ及びその製造方法

発明者： 西 義武 ,  矢部 洋正 ,  小栗 和也 ,  内田 晴久 ,  松村 義人 ,  内田 裕久
出願人/特許権者： 学校法人東海大学
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-148414
公開番号（公開出願番号）：特開2001-329347
出願日： 2000年05月19日
公開日（公表日）： 2001年11月27日
要約：

【要約】【課題】本発明は、磁歪感受率が高く、かつ薄膜製作の際の時間や経費を低減することを課題とする。【解決手段】基板21と、この基板21上に形成され、金属組織が(111)面及び(220)面に配向しかつ針状であるFe及びPdの合金からなる薄膜22とを具備し、FeとPdの原子%がFe:Pd=60〜50:40〜50であることを特徴とする形状記憶効果を利用した形状記憶合金アクチュエータ。

請求項（抜粋）：

基板と、この基板上に形成され、金属組織が(111)面及び(220)面に配向しかつ針状であるFe及びPdの合金からなる薄膜とを具備し、FeとPdの原子%がFe:Pd=60〜50:40〜50であることを特徴とする形状記憶効果を利用した形状記憶合金アクチュエータ。

IPC (2件)：

C22C 38/00 302 ,  C22C 5/02

FI (2件)：

C22C 38/00 302 V ,  C22C 5/02

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 高磁歪感受率を示すFe-Pd合金薄膜に関する研究