特許
J-GLOBAL ID:200903045127793688
焼結原料の水分制御方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高野 茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-050226
公開番号(公開出願番号):特開2000-248321
出願日: 1999年02月26日
公開日(公表日): 2000年09月12日
要約:
【要約】【課題】 鉄鉱石の焼結鉱製造時に精度良く安定して焼結原料の水分値を制御する。【解決手段】 注水機能を具備するミキサー5を備えた焼結設備にて焼結原料の水分を目標水分に制御する方法において、ミキサーの上流側では焼結原料の水分値を銘柄毎に絶対乾燥式水分計2a〜2eで測定し、その測定値に基づいてミキサーでの注水量をフィードフォワード制御すると共に、ミキサーの下流側ではミキサーで混合された焼結原料の水分値を赤外線水分計13で測定し、その測定値に基づいてミキサーでの注水量をフィードバック制御する。その際に、絶対乾燥式水分計による水分測定を少なくとも2時間に1回の頻度で行うこと、絶対乾燥式水分計による1回当りの分析試料重量を80g以上とすること、及びフィードバック制御は15〜30分間隔で行うことが好ましい。
請求項(抜粋):
注水機能を具備するミキサーを備えた焼結設備にて焼結原料の水分を目標水分に制御する方法において、前記ミキサーの上流側では焼結原料の水分値を銘柄毎に絶対乾燥式水分計で測定し、その測定値に基づいてミキサーでの注水量をフィードフォワード制御すると共に、ミキサーの下流側ではミキサーで混合された焼結原料の水分値を赤外線水分計で測定し、その測定値に基づいてミキサーでの注水量をフィードバック制御することを特徴とする焼結原料の水分制御方法。
IPC (2件):
FI (2件):
C22B 1/20 T
, G01N 21/35 A
Fターム (9件):
2G059AA10
, 2G059BB09
, 2G059CC09
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059HH01
, 4K001AA10
, 4K001BA04
, 4K001CA37
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