特許
J-GLOBAL ID：200903045130215393
半導体リングレーザージャイロ装置及びその駆動方法、半導体リングレーザー
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-180252
公開番号（公開出願番号）：特開2002-005666
出願日： 2000年06月15日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：
【要約】【課題】 後方散乱を抑制するためには別の光学系や制御系が必要であるため、構成が複雑になる。【解決手段】 リング状の光路の一部に利得領域を形成し、その他の領域にレーザー発振した光に対して透明な領域又は吸収領域を形成する。
請求項（抜粋）：
少なくとも活性層と導波路とが半導体によって構成されている半導体リングレーザージャイロ装置において、リング状の光路の一部に利得領域を形成し、その他の領域にレーザー発振した光に対して透明な領域又は吸収領域を形成したことを特徴とする半導体リングレーザージャイロ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
2F105DD07
, 5F073AA45
, 5F073AA66
, 5F073CA12
, 5F073DA21
, 5F073EA27
