特許

J-GLOBAL ID：200903045137439068

シリカガラス組成物及びこれを使用したシリカガラスの製造方法

発明者： 尹 暎 植 ,  白 永 ▲みん▼
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-278074
公開番号（公開出願番号）：特開平11-171585
出願日： 1998年09月30日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：

【要約】【課題】 シリカガラス組成物及びこれを使用したシリカガラスの製造方法を提供する。【解決手段】 平均粒径が5×10-3 乃至1×10-1 μmで、比表面積が50乃至400m2 /gの熱分解シリカと、熱分解シリカの凝集体で、平均粒径が2乃至15μmであり、前記熱分解シリカよりも比表面積が小さい熱処理シリカを含む。これにより、乾燥後亀裂(cracking)がほとんど生じなく、焼結後収縮率が顕著に低まった高純度シリカガラスチューブを製造することができる。さらに、大型のシリカガラスチューブを製造することも可能になる。

請求項（抜粋）：

平均粒径が5×10-3 乃至1×10-1 μmで、比表面積が50乃至400m2 /gの熱分解シリカと、熱分解シリカの凝集体で、平均粒径が2乃至15μmであり、前記熱分解シリカよりも比表面積が小さい熱処理シリカを含んでいることを特徴とするシリカガラス組成物。

IPC (3件)：

C03C 3/06 ,  C01B 33/18 ,  C03C 6/00

FI (3件)：

C03C 3/06 ,  C01B 33/18 A ,  C03C 6/00