特許
J-GLOBAL ID：200903045141106987
洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-233345
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084862
出願日： 1992年09月01日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】洗浄装置における反応ガスの薄い流層を得る。【構成】第一の反応ガスに第二のガスを重ねて流すようにガス供給口を二つ設け、第二のガスの圧力,流量を調節する。【効果】微小な反応ガスの流層の調整が第二のガスの供給圧力,流量の簡単な調整によって得られる。
請求項（抜粋）：
被洗浄面上に洗浄に効果をもつ活性ガスの流層の上に、前記活性ガスの流層の厚さを制御する別のガスの流層を設けたことを特徴とする洗浄装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, B08B 5/00
, H01L 21/027
, H01L 21/302
