特許
J-GLOBAL ID:200903045171624370
窒化炭素配向膜被覆部材及び製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
川瀬 茂樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-352602
公開番号(公開出願番号):特開平9-175900
出願日: 1995年12月25日
公開日(公表日): 1997年07月08日
要約:
【要約】【目的】 新規物質である窒化炭素(C3 N4 )はアモルファスか質の悪い多結晶しか得られていない。ある方向に結晶粒の方向がそろっているC3 N4 配向膜を製造することが目的である。【構成】 基板の上にSi3 N4 の配向膜をまず形成する。Si3 N4 中間層の上にC3 N4 薄膜を製作することによってC3 N4 配向膜を得る事ができる。中間層のα型、β型を選択的に製造することによって、α型、β型のC3 N4 を製造することができる。
請求項(抜粋):
基板に中間層として窒化珪素(Si3 N4 )配向膜が形成され、前記窒化珪素配向膜上に窒化炭素配向膜が形成された構造を持つ事を特徴とする窒化炭素配向膜被覆部材。
IPC (3件):
C30B 29/38
, C23C 14/06
, C23C 16/36
FI (3件):
C30B 29/38 B
, C23C 14/06 N
, C23C 16/36
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