特許
J-GLOBAL ID：200903045183236945
変形照明露光装置用マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-025616
公開番号（公開出願番号）：特開平6-242594
出願日： 1993年02月15日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【目的】 孤立パターンの解像度を向上できる変形照明露光装置用マスクを提供する【構成】 最小パターンピッチPに最適化された変形照明露光装置用マスクにおける線幅wの孤立した主パターンAの両側に距離s1,s2を保って線幅sw1,sw2の補助パターンAS1,AS2を配置する。線幅sw1,sw2を最小線幅P/2より狭く設定して補助パターンが単独で解像されないようにする。P/2≦s1≦(P-sw1)及びP/2≦s2≦(P-sw2)となるように距離s1,s2を設定して補助パターンAS1,AS2の透過光と主パターンAの透過光との光路差が大略半波長だけ異なるようにする。こうして、主パターンAから暗部に染み出した光を補助パターンAS1,AS2から暗部に染み出した光によって打ち消してコントラストを強調して解像度を向上する。
請求項（抜粋）：
解像可能なパターンの最小ピッチを表す最小パターンピッチPを有するパターンを転写するための変形照明露光装置用マスクであって、他のパターンから距離(P+所定値S)以上を保って配置されてP/2以上の幅を有する主パターンの少なくとも一部の近傍に、上記主パターンと同じ透過特性を有する補助パターンを配置し、この補助パターンの幅SをP/2より狭くする一方、上記主パターンから上記補助パターンまでの最短距離をP/2以上であって且つ(P-S)以下であるようにしたことを特徴とする変形照明露光装置用マスク。
IPC (2件)：
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