レジスト組成物とレジストパターンの形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井桁貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-239871
公開番号（公開出願番号）：特開平5-080515
出願日： 1991年09月19日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】レジストパターンの形成方法に関し、遠紫外光を光源として耐ドライエッチング性と解像性の優れた高感度のレジストパターンを形成する。【構成】下式(1)で表される2-ノルボルネン-2- 置換体とアクリル酸系エステルとの共重合体と、光酸発生剤とからなることを特徴としてレジスト組成物を作り、このレジストを被処理基板上に被覆して選択露光を行い、ベークした後にアルカリ現像することを特徴としてレジストパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

下記の一般式(1)で表される2-ノルボルネン-2- 置換体とアクリル酸系エステルとの共重合体と、光酸発生剤とからなることを特徴とするレジスト組成物。【化1】

IPC (6件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/027 502 , G03F 7/029 , G03F 7/20 502 , H01L 21/027

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