特許

J-GLOBAL ID：200903045196096557

洗浄方法およびその装置

発明者： 白井 修
出願人/特許権者： 東芝電子エンジニアリング株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-068438
公開番号（公開出願番号）：特開平8-262388
出願日： 1995年03月27日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：

【要約】【目的】 被洗浄物の表面から塵埃を確実に剥離できる洗浄装置を提供する。【構成】 液散布ノズル3から散布用液体L1を液晶基板Bの表面上の全面に、一様な状態で散布する。液晶基板Bの表面上に付着したダストを、液晶基板Bの表面に付着した部分を除いて散布用液体L1に包み込んだ状態となる。液晶基板Bの表面上の散布用液体L1を散布液凍結機構9により凍結させて固体化する。散布溶液体L1は体積変化が生じ、液晶基板Bの表面上に付着したダストに、散布用液体L1に包み込んだ状態で剥離方向に外力を与え、剥離させる。液散布ノズル13から解凍用液体L2を散布し、凍結固体化された液晶基板Bの表面の散布用液体L1を0°Cで解凍して液体化させる。液晶基板Bの表面上の解凍用液体L2により、浮遊状態にあるダストを液晶基板Bの表面より除去する。基板乾燥機構により液晶基板Bを乾燥させ、液晶基板Bの洗浄を完了する。

請求項（抜粋）：

被洗浄物の表面に液体を散布し、この散布された液体を凍結させ、この凍結した液体を解凍させて被洗浄物の表面を洗浄することを特徴とする洗浄方法。

IPC (3件)：

G02F 1/13 101 ,  B08B 3/00 ,  G02F 1/1333 500

FI (3件)：

G02F 1/13 101 ,  B08B 3/00 ,  G02F 1/1333 500