特許

J-GLOBAL ID：200903045197399847

光学薄膜被覆フィルムの形成方法

発明者： 山田 泰美
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-054645
公開番号（公開出願番号）：特開2000-249801
出願日： 1999年03月02日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：

【要約】【課題】酸化物よりなる高性能光学薄膜をプラスチックフィルム上に高速に成膜し、基材へのダメージを極力抑えた、生産性の高い光学薄膜の形成方法を提供する。【解決手段】酸素雰囲気下にて高周波プラズマを介した金属や金属酸化物の蒸着により、基材上に光学薄膜を形成する方法で、放電周波数が14MHz以上または100MHzまでの範囲の光学薄膜被覆フィルムの形成方法を提供する。前記の基材がロール状態から巻き出された発明、基材が強制加熱されてない発明も提供する。

請求項（抜粋）：

酸素雰囲気下にて高周波プラズマを介した金属あるいは金属酸化物の蒸着により、基材上に光学薄膜を形成する方法であって、放電周波数が14MHz以上であることを特徴とする光学薄膜被覆フィルムの形成方法。

IPC (3件)：

G02B 1/10 ,  C23C 14/54 ,  G02F 1/1335

FI (3件)：

G02B 1/10 Z ,  C23C 14/54 B ,  G02F 1/1335

Fターム (25件)：

2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FB06 ,  2H091FB08 ,  2H091FC01 ,  2H091FC02 ,  2H091GA01 ,  2H091LA12 ,  2K009BB12 ,  2K009BB22 ,  2K009BB24 ,  2K009CC03 ,  2K009DD04 ,  2K009EE00 ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA48 ,  4K029BC07 ,  4K029CA03 ,  4K029DA04 ,  4K029DD02 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03