特許
J-GLOBAL ID：200903045218391990
テーパ導波路の作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-280768
公開番号（公開出願番号）：特開平7-134216
出願日： 1993年11月10日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：
【要約】【目的】 テーパ長が比較的短く、光学的損失の少ないテーパ導波路を、量産に適した方法で作成する。【構成】 従来のシャドウマスク法とは異なり、フォトレジストパターンをマスクのかわりにして、これに垂直方向からではなく、斜め方向から成膜を行う。テーパ形状は、成膜装置の構成やフォトレジストパターンの厚さによって変わるが、テーパ長はフォトレジストパターンの厚さと同じ程度で、テーパ比1:10前後の、任意の形状のものが得られる。【効果】 ミクロンオーダーのテーパ長で光学的損失の少ないテーパ導波路が、ICの技術で容易に作製でき、光導波路素子の集積化、生産性の向上が図れる。
請求項（抜粋）：
基板上にテーパ導波路を作製する方法において、上記基板上に所定パターンのフォトレジストを形成し、該フォトレジストが形成された基板に対して斜め方向から成膜することにより、基板上にテーパ導波路を作製することを特徴とする、テーパ導波路の作製方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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