特許

J-GLOBAL ID：200903045225742870

共重合体樹脂とその製造方法、この共重合体樹脂を含むフォトレジスト、および半導体素子

発明者： 鄭 ▲みん▼鎬 ,  鄭 載昌 ,  卜 ▲ちょる▼圭 ,  白 基鎬
出願人/特許権者： 現代電子産業株式会社
代理人 (1件)： 荒船 博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-365227
公開番号（公開出願番号）：特開平11-255840
出願日： 1998年12月22日
公開日（公表日）： 1999年09月21日
要約：

【要約】【課題】 悪臭問題を解決すると共に、優れた解像力を有する新しいタイプのフォトレジストを提供する。【解決手段】 モノメチル-シス-5-ノルボルネン-エンド-2、3-ジカルボキシレート単量体を含む原料から得られる下記一般式(1)で示される共重合体樹脂と、これを含有するフォトレジストである。【化1】(前記一般式(1)中、Rはt-ブチル基、ヒドロピラニル基、ヒドロフラニル基、またはエトキシエチル基を示し、x:y:zの比は(0.1〜99%):(0.1〜99%):(0.1〜99%)である。)

請求項（抜粋）：

分子量3,000〜100,000であり、モノメチル-シス-5-ノルボルネン-エンド-2、3-ジカルボキシレート単量体を含む原料から得られることを特徴とする下記一般式(1)で示される共重合体樹脂。【化1】(前記一般式(1)中、Rはt-ブチル基、ヒドロピラニル基、ヒドロフラニル基、またはエトキシエチル基を示し、x:y:zの比は(0.1〜99%):(0.1〜99%):(0.1〜99%)である。)

IPC (5件)：

C08F222/06 ,  C08F277/00 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

C08F222/06 ,  C08F277/00 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R