特許

J-GLOBAL ID：200903045234557199

投影装置および露光装置

発明者： 大▲崎▼ 美紀
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 岸田 正行 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-373706
公開番号（公開出願番号）：特開2000-195782
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：

【要約】【課題】 露光装置のステージ上に光強度検出装置を設けると、高速で駆動すべきステージの重量増加によりステージ駆動速度が低下する。【解決手段】 投影光学系1を通った光により、ステージ4に配置された感光性部材上等にマスクの像を形成する露光装置において、ステージに反射部6を設け、投影光学系を通って上記反射部で反射し、再度投影光学系を通った光により形成されるマスクの像の光強度分布に基づいて投影光学系の波面収差を得る。

請求項（抜粋）：

投影光学系を通った光によりマスクの像を形成する投影装置において、前記投影光学系を複数回通った光により形成されるマスクの像の光強度分布に基づいて前記投影光学系の波面収差を得ることを特徴とする投影装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/207

FI (3件)：

H01L 21/30 516 A ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/207 H

Fターム (13件)：

2H087KA21 ,  2H087LA23 ,  2H087RA01 ,  2H087TA03 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB19 ,  5F046CB24 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DB01 ,  5F046DB11 ,  5F046DC06